ASML公司几乎垄断了全球先进光刻机市场，产品广为三星、台积电等芯片厂商所用。但是，随着中国芯片业快速发展，ASML的垄断地位正面临前所未有的挑战。中国已经取得多项EUV光刻机核心专利，实现DUV光刻机全产业链自主化。

最近上海已实现14nm量产，这对ASML是重大冲击。14nm可满足中国80%以上芯片需求。加上中国掌握芯片堆叠技术，可将14nm性能提升至7nm。这意味着中国对进口光刻机依赖度正在迅速下降。

此外，中国还在研究无需光刻机的新型芯片制造技术，如日本的压印光刻已实现10nm量产。新材料和新结构方面也有重大进展，这些技术都可能颠覆传统光刻模式。面对中国进步，ASML高管已明确不会与中国“脱钩”。但今年以来，受出口限制影响，ASML向中国出货显著减少。

外界担心如果局势恶化，ASML可能退出中国市场。然而今年头8月，尽管遭遇重重限制，中国芯片出口还是逆势增长20%以上。充分证明中国芯片产业实力正在增强。所以，在中国自主创新推进的背景下，ASML的光刻机垄断地位面临空前挑战。

虽然ASML技术上还占优势，但中国各项进展已经对其形成强大冲击。如果ASML不积极应对，可能会失去中国这一最大芯片市场。业内认为，这将是ASML历史上一个重大转折点。让我们拭目以待，看ASML如何应对中国的快速崛起。

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